中国据报开始量产国产浸没式 DUV 光刻机

据路透独家，中国已开始小批量量产国产浸没式 DUV 光刻机，由国资背景的上海爱晟纳整合多家光刻初创团队牵头，计划 2026 年交付约 5 台、2027 年约 20 台，首批交 SMIC/华虹/长鑫做产线验证。机型面向 28nm 单次曝光（多重曝光理论可达 7/5nm，但良率低成本高），部分关键部件仍依赖日本供应商，整体性能落后 ASML。